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簡要描(miao)述:恒(heng)溫油槽CH3030采用(yong)(yong)(yong)單(dan)片微處理器(qi)控制、自整定(ding)PID調節,進口鉑(bo)電阻(Pt100)測溫,控溫精度高、波(bo)動度小;儀器(qi)工(gong)作(zuo)穩定(ding)可靠,操作(zuo)方(fang)便安全。廣泛適用(yong)(yong)(yong)于生物工(gong)程,醫藥,食品,化(hua)工(gong),治金(jin),石油等領域。為用(yong)(yong)(yong)戶提供高精度的(de)(de)(de),受(shou)控的(de)(de)(de),溫度均勻的(de)(de)(de)恒(heng)定(ding)的(de)(de)(de)恒(heng)定(ding)場所,是(shi)研(yan)究院,高等院校。工(gong)廠實驗室(shi),質檢(jian)部(bu)門理想的(de)(de)(de)恒(heng)溫槽。
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恒溫油槽CH3030技術參數:
型(xing) 號(hao) | CH3006 | CH3010 | CH3015 | CH3030 |
溫度(du)范圍(wei)(℃) | 室溫+25~300 | 室溫+25~300 | 室(shi)溫+25~300 | 室(shi)溫+25~300 |
溫度波動度(℃) | ± 0.1 | ± 0.1 | ± 0.1 | ± 0.1 |
控溫(wen)方式 | 微機溫(wen)控、PID調節(jie) | 微(wei)機溫控(kong)、PID調節 | 微機溫控、PID調節 | 微機溫(wen)控、PID調節 |
顯(xian)示分辨率(℃) | 0.1 | 0 | 0.1 | |
內膽容積(L) | 6 | 10 | 15 | 30 |
開口(kou)尺(chi)寸(長×寬(kuan)×深(mm) | 150 × 180 × 150 | 240× 180 × 150 | 240× 180 × 200 | 290× 350 × 200 |
泵循環(huan)方式 | 內循(xun)環 | 內循環 | 內循環 | 內循環 |
泵流量(L) | 6 | 6 | 8 | 10 |
功率(lv)(KW) | 1.5 | 1.5 | 1.8 | 2 |
內膽尺寸(長×寬×深(mm) | 240× 150× 150 | 280× 210 × 150 | 280 × 250 × 200 | 480×420 × 580 |
恒溫油槽CH1515產品特(te)點:
1,具有*內(nei)循(xun)(xun)環(huan)/外(wai)(wai)循(xun)(xun)環(huan)泵(beng)系(xi)統,內(nei)循(xun)(xun)環(huan)保證溫度均(jun)勻恒定,外(wai)(wai)循(xun)(xun)環(huan)泵(beng)可把槽(cao)內(nei)被加熱(re)液體通過循環(huan)泵可以把(ba)槽內被恒溫(wen)液(ye)體外引建立(li)第二恒溫(wen)場(chang);
2 ,LED雙窗口分(fen)別(bie)數顯(xian)溫(wen)(wen)度(du)測量值及溫(wen)(wen)度(du)設定值,數顯(xian)分(fen)辨率0.01℃,觸摸按鍵操作方便(bian)。
3,測(ce)量值偏差補正功能,溫度(du)精度(du)可達0.1度(du)
4,具有超溫保護功(gong)能,防止儀器失控;上限超溫報警,可自己設定,超出范圍,即刻報警;
5,內(nei)膽、臺面均(jun)為高質量不銹鋼(gang),耐腐(fu)蝕(shi),易清潔 ,儀器工(gong)作穩(wen)定可靠(kao),操(cao)作非常(chang)方便(bian).
?可選配RS232或RS485通訊接口,實現數據傳輸進行遠距離控制。
?可(ke)以選(xuan)配程序控溫系統,其特點(dian)為:
大屏幕(mu)液(ye)晶顯(xian)示,軟件程序控制,可編輯時間/溫(wen)度曲線。
多段可編溫度(du)、時間程序,控制(zhi)升溫、恒溫、降(jiang)溫過程,且升溫速度(du)、降(jiang)溫速度(du)可按用戶要求設置自動(dong)控制(zhi)。
編寫儲存30個溫度/時間段,每個程序(xu)可設置0~9999分鐘運行時間。
多種參數(shu)設(she)定方(fang)式:方(fang)便快捷的輸入鍵、移位鍵和增(zeng)鍵、減鍵,設(she)定溫度/時間段及其(qi)他高級(ji)控(kong)制參數(shu)或(huo)直接調儲存的溫度/時間設(she)定程(cheng)序。
?超級(ji)恒溫槽CH1020主要應用領(ling)域(yu):
分析儀器:光譜儀、質譜儀、粘度計、旋光儀、發酵裝置、旋轉蒸發儀等配套使用 。
真空獲得及醫療:分子泵、擴散泵、降溫毯 、X光機核磁共振加速器等配套使用 。
工業設備及其他:激光設備、真空鍍膜設備、生物制藥、模具機床、真空爐、焊接機反應釜等配套使用。
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