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當前位置:首頁   >  產品中心  >  超級恒溫水浴槽系列  >  大容積恒溫水槽  >  CH104040升(sheng)大容積恒溫水槽(cao)

40升大容積恒溫水槽

簡要(yao)描述:40升大容積恒溫水槽CH1040的詳細資料:
采用單片微處理器控制、自整定PID調節、進口鉑電阻(Pt100)測溫,控溫精度高、波動度小;儀器工作穩定可靠,操作方便安全。
CH1040廣泛適用(yong)于生物工程、醫(yi)藥、食品、化工、治金、石油等領域。為用(yong)戶提供高(gao)精(jing)度的(de)(de)、受控的(de)(de)、溫度均勻的(de)(de)恒(heng)定的(de)(de)恒(heng)溫場所,是(shi)研究院、高(gao)等院校、工廠實驗室部門(men)等

  • 產(chan)品型號:CH1040
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間(jian):2024-03-14
  • 訪  問  量:1275

詳細介紹

40升大(da)容積恒溫(wen)水槽廣泛適用(yong)于(yu)生物工程、醫藥、食品、化(hua)工、治(zhi)金(jin)、石油等領域(yu)。為用(yong)戶提供高精度(du)的(de)、受控的(de)、溫(wen)度(du)均勻的(de)恒定的(de)恒溫(wen)場所;是研究(jiu)院(yuan)、高等院(yuan)校、工廠實驗(yan)室、質檢部門等理想的(de)恒溫(wen)槽。

廣泛適用于生物(wu)工(gong)程、醫藥、食品、化工(gong)、治金、石油等領(ling)域。為用戶提供高精度(du)的、受控的、溫(wen)度(du)均(jun)勻的恒(heng)定的恒(heng)溫(wen)場所;是研究院、高等院校、工(gong)廠實驗室、質檢部門等理想的恒(heng)溫(wen)槽。

?40升大容積恒溫水槽CH1040技術參數  

型    號CH1040
溫度范圍(wei)(℃)室溫+10~100
溫度(du)波動度(du)(℃)0.1
控溫方式微(wei)機溫控、PID調節(jie)
顯(xian)示分辨率(℃)0.01
內膽(dan)容(rong)積(L)40
開口(kou)尺寸(長×寬×深(mm)400× 380× 200
泵循環方式 內循環
泵流量(L)8
功率(KW)2.1
工作槽容積490 × 420 × 200

?大容積超級恒溫(wen)水浴(yu)CH1040產(chan)品特(te)點:

1,具有(you)*內循環(huan)/外(wai)循環(huan)泵(beng)系統(tong),內循環(huan)保證溫度均勻恒定,外(wai)循環(huan)泵(beng)可把槽內被加熱(re)液體通過環泵可(ke)以把槽(cao)內被恒溫液(ye)體外引建立第二(er)恒溫場;

2 ,LED雙(shuang)窗口(kou)分(fen)別數(shu)顯(xian)溫度(du)測量值及溫度(du)設定值,數(shu)顯(xian)分(fen)辨率0.01℃,觸摸按鍵操(cao)作方便。

3,測(ce)量值偏差補正功能,溫度精度可(ke)達0.1℃;

4,具有超溫保(bao)護功(gong)能,防止儀器失控;上限超溫報警,可自己設定,超出范圍,即刻報警;

5,內膽、臺面均(jun)為高質(zhi)量不(bu)銹鋼,耐腐(fu)蝕,易清(qing)潔 ,儀器工作(zuo)穩定可靠,操(cao)作(zuo)非常方便.

?可選配RS232或RS485通訊接口,實(shi)現數據(ju)傳輸(shu)進行遠距離(li)控制。

?可以選配程序(xu)控溫(wen)系統,其(qi)特點為:
大屏幕液晶顯示(shi),軟件程序控制(zhi),可編輯時間/溫度(du)曲線。
多段可(ke)編溫(wen)度、時間(jian)程序,控(kong)制升(sheng)溫(wen)、恒溫(wen)、降溫(wen)過程,且升(sheng)溫(wen)速(su)度、降溫(wen)速(su)度可(ke)按用戶要求設置自動控(kong)制。
編(bian)寫儲存30個溫(wen)度/時(shi)間(jian)段,每個程序(xu)可設置0~9999分(fen)鐘運行時(shi)間(jian)。
多(duo)種參數(shu)設定(ding)方式:方便快捷的輸入鍵(jian)、移位鍵(jian)和(he)增鍵(jian)、減鍵(jian),設定(ding)溫度(du)(du)/時(shi)間(jian)段及其他高級(ji)控制參數(shu)或直接調(diao)儲存(cun)的溫度(du)(du)/時(shi)間(jian)設定(ding)程序(xu)。

?大容(rong)積超級恒溫水浴CH1040主要(yao)應用領(ling)域(yu):

分析儀器:光譜儀、質譜儀、粘度計、旋光儀、發酵裝置、旋轉蒸發儀等配套使用 。
真空獲得及醫療:分子泵、擴散泵、降溫毯 、X光機核磁共振加速器等配套使用 。
工業設備及其他:激光設備、真空鍍膜設備、生物制藥、模具機床、真空爐、焊接機反應釜等配套使用。


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